Développement d’un flow de data préparation de lithographique 3D pour le dessin du masque freeform

Détail de l'offre

Informations générales

Entité de rattachement

Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.

Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un socle de recherche fondamentale. Le CEA s'engage depuis plus de 75 ans au service de la souveraineté scientifique, technologique et industrielle de la France et de l'Europe pour un présent et un avenir mieux maîtrisés et plus sûrs.

Implanté au cœur des territoires équipés de très grandes infrastructures de recherche, le CEA dispose d'un large éventail de partenaires académiques et industriels en France, en Europe et à l'international.

Les 20 000 collaboratrices et collaborateurs du CEA partagent trois valeurs fondamentales :

• La conscience des responsabilités
• La coopération
• La curiosité
  

Référence

SL-DRT-25-0435  

Direction

DRT

Description du sujet de thèse

Domaine

Défis technologiques

Sujets de thèse

Développement d’un flow de data préparation de lithographique 3D pour le dessin du masque freeform

Contrat

Thèse

Description de l'offre

Avec l’avancement des technologies optoélectroniques, notamment des imageurs et AR/VR, des géométries 3D de dimensions sub-micrométriques sont plus en plus demandées par les clients industriels. Pour fabriquer ces structures 3D, la lithographie « grayscale » avec UV profond (248nm ou 193nm) est une technologie prometteuse compatible avec la production industrielle. Par contre, la maîtrise de cette technologie est complexe et nécessite un modèle de lithographie (optique + résine) avancée pour prédire le dessin du masque optique utilisé. La thèse permettra d’améliorer notre compréhension de nos model lithographie grayscale et ses limite, ayant pour d’améliorer et d’optimiser la model et la flow de data préparation ou masque design pour diminuer l’ecart entre simulation et pattern fabriquée. Masque freeform poussera les limites de lithographie grayscale pour attendre de pitch plus agressive souhaiter pour l’application optique et optoélectronique.

Université / école doctorale

Electronique, Electrotechnique, Automatique, Traitement du Signal (EEATS)
Université Grenoble Alpes

Localisation du sujet de thèse

Site

Grenoble

Critères candidat

Formation recommandée

M2 et ecole ingenieur en physique, optique, ou nanoscience

Demandeur

Disponibilité du poste

01/10/2025

Personne à contacter par le candidat

PALANCHOKE UJWOL ujwol.palanchoke@cea.fr
CEA
DRT/DPFT//LPAC
CEA-Leti
17 Av. des Martyrs, 38054 Grenoble
0438789663

Tuteur / Responsable de thèse

GOURGON Cécile cecile.gourgon@cea.fr
CNRS - Plato
DRT/LETI/DCOS/LTM
CEA-LETI, MINATEC-Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 GRENOBLE Cedex 9
FRANCE

04.38.78.98.37

En savoir plus


https://www.leti-cea.com/cea-tech/leti/english/Pages/Welcome.aspx
https://ltm.univ-grenoble-alpes.fr/